来源:半导体
更新时间:2024-06-15 23:37:05 点击:0
大家好,今天小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于半导体的结构原理的问题,于是小编就整理了4个相关介绍半导体的结构原理的解答,让我们一起看看吧。
其导电的原理就是在纯净的半导体中通过掺杂后,得到两种半导体,即N型与P型半导体。
由于掺杂,在两类半导体内产生了两种参与导电的元素即:自由电子和空穴。如果把两类掺杂半导体通过特殊工艺结合在一体,就会出现电子与空穴的扩散、漂移和复合等运动现象,这种运动现象导致在两类半导体结合部位形成pn结。
pn结是构成电子器件的基础。其具有很多的特性。如我们现在用的二极管、三极管、场效应管、集成电路等都是。
在极低温度下,半导体的价带是满带(见能带理论),受到热激发后,价带中的部分电子会越过禁带进入能量较高的空带,空带中存在电子后成为导带,价带中缺少一个电子后形成一个带正电的空位,称为空穴。
半导体,顾名思义,就是导电性在绝缘体和导体之间的物体。导体能导电,意思就是能够让电流通过。而中学物理告诉我们,电流就是自由电子在电场力的作用下做定向运动形成的。
所以,导体中必须有大量的自由电子。那么这些自由电子怎么来的呢?我们知道,物质是由分子构成的,分子是由原子构成的,原子是由原子核以及围绕在周围的电子构成的
半导体的导电性介于导体与绝缘体之间,比较常用的有硅、锗;纯净的半导体只能作原料,没有特别之处。参杂后则不同,它具有单向导电性。这是因为PN结的存在,削弱PN结电场则导通,反之则不导电。
以硅为例,参入三价硼形成空穴用P表示;参入五件的铟则形成自由电子用N表示;把PN结合在一起,则同时发生扩散和漂移运动,结果不能移动的电荷形成PN结电场。
原理如下
半导体原理通俗理解是指在极低温度下,半导体的价带是满带(见能带理论),受到热激发后,价带中的部分电子会越过禁带进入能量较高的空带,空带中存在电子后成为导带,价带中缺少一个电子后形成一个带正电的空位,称为空穴。
原理就是在纯净的半导体中通过掺杂后,得到两种半导体,即N型与P型半导体。
由于掺杂,在两类半导体内产生了两种参与导电的元素即:自由电子和空穴。如果把两类掺杂半导体通过特殊工艺结合在一体,
半导体是一种电阻介于导体和绝缘体之间的材料。半导体的特性和原理包括:
1. 导电性:半导体具有可控制的导电性,其电阻值可以通过添加杂质或改变温度来调节。
2. PN结:由p型半导体和n型半导体焊接而成,在PN结处存在电场和空间电荷区域,因此可以用作整流器、发光二极管等元件。
3. 热激发:半导体的导电能力随着温度升高而增加。这是因为热激发会产生自由电子和空穴,并且在高温下这些自由载流子数量增加,从而提高了导电能力。
4. 禁带宽度:半导体中带隙大小决定了该材料的特性,禁带宽度越小,则其导电性越好。通常情况下,硅、锗等材料的禁带宽度非常小。
半导体存储器是一种以半导体电路作为存储媒体的存储器,内存储器就是由称为存储器芯片的半导体集成电路组成。 按其功能可分为:随机存取存储器(简称RAM)和只读存储器(只读ROM) RAM包括DRAM(动态随机存取存储器)和SRAM(静态随机存取存储器),当关机或断电时,其中的 信息都会随之丢失。 DRAM主要用于主存(内存的主体部分),SRAM主要用于高速缓存存储器。 ROM 主要用于BIOS存储器。 按其制造工艺可分为:双极晶体管存储器和MOS晶体管存储器。 按其存储原理可分为:静态和动态两种。 其优点是:体积小、存储速度快、存储密度高、与逻辑电路接口容易。 主要用作高速缓冲存储器、主存储器、只读存储器、堆栈存储器等。
到此,以上就是小编对于半导体的结构原理的问题就介绍到这了,希望介绍关于半导体的结构原理的4点解答对大家有用。
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